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該真空系統(tǒng)采用一個真空泵同時進行兩個獨立的真空應用的操作,。每個真空端口安裝一個帶電磁閥的CVC 3000真空控制器進行真空控制。采用MD 4C NT三級化學隔膜泵作為基礎泵,可滿足絕大部分高沸點溶劑的真空需求。該泵的抽速足夠大,允許同時進行兩個大氣載的操作。兩個真空端口都內置止回閥,防止交互污染或干擾。出氣口廢氣冷凝器可實現(xiàn)溶劑回收效果,有效循環(huán)利用溶劑同時保護環(huán)境。
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